杰出人才

教育经历：

2003-2007 西北大学 光信息科学与技术 本科

2008-2010 瑞典隆德大学 光电子学 硕士

2010-2013 巴黎萨克雷大学 物理学 博士

工作经历：

2010-2013 法国原子能署 玛丽居里青年科学家

2014-2015 苏黎世联邦理工 博士后

2015-2021 阿斯麦公司研究部 研发科学家

2021-2025 中国科公司上海光机所 研究员、全国重点实验室副主任

2025至今 det365 教授

兼职情况：

Advanced Scientific Instruments期刊编委

激光与光电子学进展期刊编委

中国机械工程学会半导体ZB分会常务委员

中国仪器仪表学会集成电路测量与仪器分会委员

中国光学工程学会微纳专业委员会委员

研究生课程：集成电路制造产业技术体系

极紫外（EUV）光源、先进光刻技术、芯片测量与检测技术、阿秒激光产生与应用

获奖情况：

1. 2010 玛丽居里学者

2. 2021 上海市领军人才

3. 2021 国家级领军人才

发明专利：

[1] Nan LIN；Arie Jeffrey Den Boef；Sander Bas ROOBOL；Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN；Niels GEYPEN HHG source, inspection apparatus and method for performing a measurement US 10816906 B2

[2] Nan LIN；Sander Bas ROOBOL；Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN Method and apparatus for generating illuminating radiation US 10048596 B2

[3] Nan LIN；Arie Jeffrey Den Boef；Sander Bas ROOBOL；Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN；Niels GEYPEN HHG source, inspection apparatus and method for performing a measurement US 10234771 B2

[4] Nan LIN；Arie Jeffrey Den Boef；Sander Bas ROOBOL；Simon Gijsbert Josephus MATHIJSSEN；Niels GEYPEN HHG source, inspection device, and method of performing measurements KR 102217258 B1

[5] Nan LIN；Sander Bass Rubel；Simon Zisbert Josephus Masigen Method and apparatus for generating illumination radiation KR 102151013 B1

代表性论文：

[1] Generation and characterization of Ho: YLF solid-state laser-driven tin plasma for EUV lithography, Chip, 2026

[2] Spectral broadband characterization method for laser-produced plasma EUV source, Measurement, 2026

[3] Fast physics-guided ptychographic reconstruction for photomask defect inspection, Optics and Laser Technology, 2026

[4] Computational metrology method of collector mirror for EUV lithography, Optics and Lasers in Engineering, 2025

[5] Spectral purity systems applied for laser-produced plasma extreme ultraviolet lithography sources: a review, High Power Laser Science and Engineering, 2023